FLUX.1 Fill pro 改寫風格人像：現實與藝術雙樣本
以 FLUX.1 Fill [pro] 的局部重繪能力演示同一人像在兩種風格提示詞下的編輯結果：一條走真實感路線（保留皮膚紋理與自然光），一條走藝術化路線（繪畫化筆觸與色塊）。構成上需要一張原圖與一張與原圖同尺寸的二值遮罩，白色區域交由提示詞重繪，黑色區域保持不變；本作品用全白遮罩對整幅人像做整體風格改寫，從而把「提示詞差異」單獨暴露出來。適合開發者在接入 FLUX.1 Fill pro 前，觀察遮罩範圍、guidance 與 prompt_upsampling 對同一底圖輸出風格的影響，也可作為人像類素材局部修整、換膚、換背景的提示詞參考。注意該模型是編輯模型而非文生圖模型，效果依賴遮罩質量與提示描述，精細結構仍可能需要多次嘗試。
Style Portrait et photographie · retouche ciblée · transfert-de-style
Modèle FLUX.1 Fill Pro
Entrées de référence
mask
image
Prompt
Guide de retouche de portrait photoréaliste : conserver la structure faciale et la pose du sujet, et ne repeindre le style que dans la zone du masque. Texture de peau naturelle, pores clairement visibles, lumière douce de fenêtre venant de la gauche de l'appareil photo, dégradés subtils dans les ombres, étalonnage neutre, faible profondeur de champ, composition de portrait au 85 mm, pas de lissage de peau effet plastique, pas de netteté excessive.
Copiez le prompt complet et adaptez-le à votre propre génération.
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