FLUX.1 Fill [pro] Conceito de cenário do universo: extensão de crista montanhosa ao longe

Explorando visualmente o universo com a capacidade de outpainting do flux-1-fill-pro: primeiro, apresente um conceito de plano distante em formato estreito (crista, torre solitária, faixa de nuvens baixas), depois use uma máscara para estender a tela para os lados, complementando a profundidade ambiental sob a mesma iluminação e perspectiva. A obra aplica deliberadamente a «edição pontual» na construção de atmosfera — não se trata de redesenhar a imagem inteira, mas de permitir que o modelo continue, na área branca da máscara, os materiais, a temperatura de cor e a sensação de ar da imagem existente, obtendo assim uma cena ampla utilizável como fundo de storyboard ou em um livro de conceitos. A composição inclui dois materiais de geração: a imagem conceitual original como base de edição (image) e uma máscara de extensão com a mesma proporção da original, branca apenas nas laterais (mask). O prompt descreve apenas o conteúdo que deve aparecer na área branca (linhas de crista estendidas, grupos de picos enevoados ao longe, nuvens iluminadas pela mesma luz lateral), enfatizando a consistência de iluminação, perspectiva e pinceladas com a imagem existente. Nos parâmetros, steps=50, guidance=60, prompt_upsampling desativado, para evitar que o modelo reescreva a descrição e se desvie do universo estabelecido. Aplicações: expansão de enquadramento em design conceitual inicial de cinema/jogos, banners de livros de conceitos e fundos de keyframes, e fluxos de produção que precisam completar o ambiente sem regenerar a imagem inteira. Este modelo é um modelo de edição, não um modelo de texto para imagem, portanto o ponto de partida desta obra deve ser uma imagem existente e uma máscara precisa.