Demostración de doble estilo de retrato con nano-banana-2: realismo y artisticidad

Se contrastan dos enfoques de prompt de nano-banana-2 con el mismo tema de retrato: uno sigue la línea del realismo, con énfasis en la textura de la piel, la luz natural y la profundidad de campo reducida; el otro sigue la línea artística, con énfasis en los bloques de color, las pinceladas y la composición decorativa. Ambos prompts describen únicamente la imagen y la luz, sin depender de parámetros no públicos del modelo, lo que facilita a los desarrolladores reescribirlos directamente como plantillas para la producción masiva de materiales. La línea del autor admite entrada de texto a imagen e imagen a imagen con hasta 14 imágenes de referencia, y también ofrece opciones de resolución 1K/2K/4K y diversos formatos de encuadre. Esta obra emplea formato vertical 4:5 y resolución 2K, pensada para materiales de retrato de tipo social y editorial; si se requiere impresión o exhibición a gran escala, puede elevarse la resolution a 4K. Ambos prompts comparten el mismo formato 4:5, lo que facilita la comparación horizontal de las diferencias entre los dos enfoques, realismo y artisticidad, en cuanto a densidad compositiva, tratamiento de la luz y expresión de materiales. Resulta adecuado como referencia de prompts, experimento de contraste de estilos y punto de partida para la exploración conceptual temprana de diseño.